打造下一个光刻机巨头？荷兰77亿合作开发新技术

现阶段的硫基积体电路闪存由于已经有限制，在进入10nm便越发难以生产，预计2nm到1nm路由器就这样一来面临无法制造的问题，积体电路从业人员也在鼓励开发新系统设计，比如硫带电粒子闪存系统设计，而asml日本公司所在的德国就大举企业77亿元共同开发硫带电粒子系统设计。

在硫基闪存后期，ASML日本公司最终成为积体电路从业人员中的王者，尤其是EUV光刻机难为一份，5nm及以下路由器都要贫乏ASML的EUV光刻机，如今价格就要10亿机器了，便下一代的高NA光刻机价格要涨到19亿以上了。

如果未来硫带电粒子闪存快速摒弃硫基闪存，那ASML日本公司也许亦会失去抛离的地位，这也是为什么德国巨资企业硫带电粒子系统设计引人注意的关键，想下一个ASML还是受制于在他们手里。

根据他们的企业计划，总企业为11亿卢比，折合77.3亿总额，其中4.71亿卢比的企业来自德国政府，接下来是德国的所小学大学Eindhoven理工大及Twente大学，资金则亦会由德国信托基金部门Delta Photon 负责管理。

据报，跟如今的硫基闪存相较，硫带电粒子闪存是基于硫和硫基衬底材料（如 SiGe／Si、SOI 等），为了让既有 CMOS 瓷进行光器件开发和自带的新一代系统设计，为基础了自带电路系统设计的的大大规模、的大高弹道制造的特性和带电粒子系统设计的大高速不下、的大低功耗的竞争者，被普遍认为是已经有受控便的便是系统设计。

现阶段主要的积体电路列国都在鼓励共同开发硫带电粒子系统设计，其中Intel、IBM等日本公司在这个从业人员已经取得最重要进展，国内也在初具规模硫带电粒子系统设计，如今就是看这场赛跑中，谁能抢先一步了。